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    產品列表

    深圳PVD鍍鈦加工

    產品名稱:深圳PVD鍍鈦加工


    一、深圳PVD鍍鈦加工基本概念


    1. PVD鍍膜技術的原理

         PVD鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。   


    2. PVD電鍍膜膜層的特點 

        采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。  


    3. PVD電鍍膜能夠鍍出的膜層種類 

        PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法,它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。  


    4. PVD電鍍膜膜層的厚度  

        PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.3μm ~ 5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ~ 1μm ,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,鍍后不須再加工。


    二、深圳PVD鍍鈦加工技術的主要特點和優勢,PVD鍍鈦加工具有如下優點: 


    1 .膜層與工件表面的結合力強,更加持久和耐磨 

    2 .離子的繞射性能好,能夠鍍形狀復雜的工件 

    3 .膜層沉積速率快,生產效率高 

    4 .可鍍膜層種類廣泛  

    5 .膜層性能穩定、安全性高(獲得FDA認證,可植入人體)


    三、深圳PVD電鍍加工技巧  


        PVD制造向多層化、積層化、功能化和集成化方向迅速的發展。促使印制電路設計大量采用微小孔、窄間距、細導線進行電路圖形的構思和設計,隨著微電子技術的飛速發展。使得PVD制造技術難度更高,特別是多層板通孔的縱橫比超過5:1及積層板中大量采用的較深的盲孔,使常規的垂直電鍍工藝不能滿足高質量、高可靠性互連孔的技術要求。   


        其主要原因需從電鍍原理關于電流分布狀態進行分析,通過實際電鍍時發現孔內電流的分布呈現腰鼓形,出現孔內電流分布由孔邊到孔中央逐漸降低,致使大量的銅沉積在外表與孔邊,無法確??字醒胄桡~的部位銅層應達到規范厚度,有時銅層極薄或無銅層,嚴重時會造成無可挽回的損失,導致大量的多層板報廢。  


        為解決量產中產品質量問題,目前都從電流及添加劑方面去解決深孔電鍍問題。高縱橫比PVD電鍍銅工藝中,大多都是優質的添加劑的輔助作用下,配合適度的空氣攪拌和陰極移動,相對較低的電流密度條件下進行的使孔內的電極反應控制區加大,電鍍添加劑的作用才干顯示進去,再加上陰極移動非常有利于鍍液的深鍍能力的提高,鍍件的極化度加大,鍍層電結晶過程中晶核的形成速度與晶粒長大速度相互補償,從而獲得高韌性銅層。  


        這兩種工藝措施就顯得無力,然而當通孔的縱橫比繼續增大或出現深盲孔的情況下。于是發生水平電鍍技術。垂直電鍍法技術發展的繼續,也就是垂直電鍍工藝的基礎上發展起來的新穎電鍍技術。這種技術的關鍵就是應制造出相適應的相互配套的水平電鍍系統,能使高分散能力的鍍液,改進供電方式和其它輔助裝置的配合下,顯示出比垂直電鍍法更為優異的功能作用。


    德隆保涂層科技有限公司

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